成人a区在线观看_4438成人网_久久久亚洲高清_色综合久久88色综合天天 _久久精品一区蜜桃臀影院_日韩欧美亚洲国产另类 _成人福利在线看_亚洲免费观看在线视频_日韩一区二区视频_国产乱国产乱300精品_日韩精品一区二区三区三区免费 _欧美人体做爰大胆视频_日韩美女啊v在线免费观看_天天影视涩香欲综合网 _日韩高清一区在线_成人免费高清在线

CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。

PECVD系統配置：1.1200度開啟式雙溫區真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質量流量控制系統4.真空系統（可選配中真空或高真空）

CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。

PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產品用途：此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。